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產品介紹 Products
特用化學品
黃光製程 > 顯影液

曝光的形式大致上有兩種,所謂的Aligner,對準式與Stepper,步進式。

以正型光阻 (Positive tone) 為例,曝光區域是可以被顯影掉,非曝光區域則是做為Hard mask用。

根據光阻的不同,需要不同的光源 (Light source), 曝光能量 (Exposure dose)。

以DNQ-Novalak型光阻為例,在曝光過程中,感光劑 DNQ,會進行光化學反應,形成所謂的光酸,Photo-acid。

 

 

正型光阻下,顯影就是將曝光區域除去;而負型光阻則是去除未曝光區域。

曝光區與非曝光區在顯影過程中,就是一個溶解選擇比的問題。

曝光區域中因為光化學反應產生了所謂的光酸,在顯影過程中,就會有酸鹼中和的反應,產生了鹽類,之後就容易被DI所洗掉;故顯影液皆為鹼性水溶液。

假設顯影液對於光阻的溶解率為S;在曝光區域,S會變大;而非曝光區域S則變小,原因在於DNQ與Novolak在鹼性環境下會有AZO coupling。

 

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顯影液的選擇對於光阻的圖形,製程上的便利性與可靠性都有很大的關係。

日益和顯影液包含了MIFMIC兩大類。MIFMetal Ion Free,即TMAH,提供客戶標準2.38%0.261NTMAH,同時間也提供25%TMAH做稀釋使用,添加劑部分則根據製程的考量,如降低對金屬的腐蝕與減低表面張力等。

SBD700系列為MICMetal Ion Containing developer。包含鉀鹽與鈉鹽為基礎的不同水溶液,可以根據客戶的需求做配置。

 

品名 簡介 特性
SBD-700 系列 SBD-701、SBD-703、SBD-705、SBD-708、SBD-709。
  1. 此系列屬於無機類顯影液,包含了以K或Na爲基底且含緩衝液的顯影液。
  2. 提供的顯影液除了完善的原物料檢測,生產過程高規格管控金屬離子與微粒子。
  3. 保證顯影液的穩定性,使得客戶在使用上無需憂慮些微變化造成的製程問題。
  4. 我們提供不同濃度的顯影液供不同製程需求使用。
TMAH TMAH 2.38%、TMAH 3%。
  1. 此系列屬於有機類顯影液。
  2. 提供的顯影液除了完善的原物料檢測,生產過程高規格管控金屬離子與微粒子。
  3. 保證顯影液的穩定性,使得客戶在使用上無需憂慮些微變化造成的製程問題。