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產品介紹 Products
特用化學品
黃光製程 > 洗邊劑

光阻塗佈;有兩個衡量指標:厚度(THK) 與均勻度 (Uniformity)。

光阻塗佈時的用量,只有與能否覆蓋整片晶圓有關,但是在旋塗的過程中,約有40~70%是灑出去的。

厚度與旋轉有關,Rotating speed;均勻度則與recipe的設置有關,一般的Coater,轉速的限制在500~3000rpm。

 

 

EBR = Edge Bead Remover。

因為旋塗中有所謂的離心力,造成光阻會跑到晶邊與晶背,若是不除去,可能造成承接晶圓的機械手臂無法精準拿取,以及後續的熱製程中,particle掉入chamber內,需要一筆非常大的維修費用與時間。EBR是使用溶劑噴洗的。

 

另一種方法稱為WEE,Wafer Edge Exposure,再加一層光罩,使邊緣曝光,再由顯影過程中一同除去。

日益和SBD607為常見的70/30比例,也可根據不同需求做客製化的調整。

品名 簡介 特性
SBE-607 光阻經過旋轉塗佈後,不必要而殘留阻劑之區域可使用洗邊劑加以清洗。
  1. 廣泛適用於各廠牌光阻劑
  2. 低揮發量及較高閃火點
  3. 低金屬離子及微粒子計數量
  4. 快速清洗阻劑殘留,可客製化不同濃度比例