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IC電鍍化學品
電鍍後處理
氨銅蝕刻劑
品名
簡介
特性
SCE-15
極高速的銅蝕刻液 (> 20um/min),可使用於厚層銅膜(40um以上)之蝕刻製程。
1.藥液中含有氨水
2. 雙劑型藥水,含有開缸主劑、補充液
3. 藥水可回收,具有再利用性
SCE-18
極高速的銅蝕刻液 (> 20um/min),可使用於厚層銅膜(40um以上)之蝕刻製程。
1.藥液中含有氨水
2. 雙劑型藥水,含有開缸主劑、補充液
3. 藥水可回收,具有再利用性
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