光阻為一間接材料,意即不會留在產品上,因此做完Mask角色后,就必須將它移除。
黃光後的製程,如:蝕刻或是電鍍,光阻都被視為hard mask使用。
Stripper的選擇除了對光阻的蝕刻率之外,同時間也必須考慮到對其他材料如電鍍後的金屬層,底材等蝕刻率。
品名 |
簡介 |
特性 |
SBS-300 |
以NMP為基礎,提供快速剝離光阻之剝離液。 |
1.光阻剝離速度快, 溫度調控範圍寬。 |
SBS-400 |
以DMSO為基礎,提供高溶載量之剝離液。 |
1.溶載量高,適用於厚膜或高片數操作。 |
SBS-500 |
以醚醇類為基礎,提供乾淨有效之剝離液。 |
1.符合歐盟規定之未來性綠色產品 |