光刻胶为一间接材料,意即不会留在产品上,因此做完Mask角色后,就必须将它移除。
黄光后的制程,如:蚀刻或是电镀,光刻胶都被视为hard mask使用。
Stripper的选择除了对光刻胶的蚀刻率之外,同时间也必须考虑到对其他材料如电镀后的金属层,底材等蚀刻率。
品名 |
簡介 |
特性 |
SBS-300 |
以NMP为基础,提供快速剥离光阻之剥离液。 |
1.光阻剥离速度快, 温度调控范围宽。 |
SBS-400 |
以DMSO为基础,提供高溶载量之剥离液。 |
1.溶载量高,适用于厚膜或高片数操作。 |
SBS-500 |
以醚醇类为基础,提供干净有效之剥离液。 |
1.符合欧盟规定之未来性绿色产品 |