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产品介绍 Products
光刻工艺
黄光制程 > 显影液

曝光的形式大致上有两种,所谓的Aligner(对准式)与Stepper(步进式)。
以正型光刻胶 (Positive tone) 为例,曝光区域是可以被显影掉,非曝光区域则是做为Hard mask用。
根据光刻胶的不同,需要不同的光源 (Light source)與曝光能量 (Exposure dose)。
以DNQ-Novalak型光刻胶为例,在曝光过程中,感光剂 DNQ,会进行光化学反应,形成所谓的光酸,Photo-acid。

 

 

正型光刻胶下,显影就是将曝光区域除去;而负型光刻胶则是去除未曝光区域。
曝光区与非曝光区在显影过程中,就是一个溶解选择比的问题。
曝光区域中因为光化学反应产生了所谓的光酸,在显影过程中,就会有酸碱中和的反应,产生了盐类,之后就容易被DI所洗掉;故显影液皆为碱性水溶液。
假设显影液对于光刻胶的溶解率为S;在曝光区域,S会变大;而非曝光区域S则变小,原因在于DNQ与Novolak在碱性环境下会有AZO coupling。

 

                                                       

 

 

显影液的选择对于光阻的图形,制程上的便利性与可靠性都有很大的关系。
日益和显影液包含了MIF与MIC两大类。 MIF,Metal Ion Free,即TMAH,提供客户标准2.38%,0.261N的TMAH,同时间也提供25%TMAH做稀释使用,添加剂部分则根据制程的考量,如降低对金属的腐蚀与减低表面张力等
SBD-700系列为MIC,Metal Ion Containing developer。包含钾盐与钠盐为基础的不同水溶液,可以根据客户的需求做配置。

品名 简介 特性
SBD-701 为高纯度之环戊酮。针对晶圆制程之PI光阻,具有良好之显影效果。
  1. 电子级化学品
  2. 对PI光阻具有良好之反应性
SBD-703 含钾盐并具有缓冲力之广效型无机显影液,对大部分正(负)型光阻皆可有效显影。
  1. 可依不同稀释比例达到所需显影效果,亦可客制化不同浓度比例
SBD-708 含钾盐并具有缓冲力之广效型无机显影液,对大部分正(负)型光阻皆可有效显影。
  1. 可依不同稀释比例达到所需显影效果,亦可客制化不同浓度比例
SBD-707C 针对干膜(Dry film)所研发之特殊显影液,因含特殊添加剂对大部分干膜显影效果佳。
  1. 可依不同稀释比例达到所需显影效果,亦可客制化不同浓度比例