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产品介绍 Products
光刻工艺
黄光制程 > 稀释剂

日益和稀释液为高纯度且经过高规格的质量管控,有效的掌控金属离子与其他微粒子。

在用途上,可以作为光刻胶的稀释,管线的清洗以及工艺上的改善。

Pre-wetting的效果就是先让溶剂进入较窄的沟槽等,之后涂布光刻胶,不会造成seam/void.
RRC最早为TEL所提出,可以藉由pre-wetting使得光刻胶在旋转过程中更快速的分布于整面wafer上。

 

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品名 简介 特性
SBD-800 系列 SBD-801、SBD-802G。
  1. SBD-800系列为高纯度的有机溶剂。
  2. 提供客户完善的金属离子与微粒子的高规格管控。
  3. SBD-801为纯度>99.5%的PMA,提供客户在稀释与RINSE上的需求。
  4. SBD-802G为纯度>99% GBL,作为PBO与PI涂布前的预湿润。