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光刻工艺
其他 > 溶剂/水溶液
品名 简介 特性
NMP (电子级) 溶劑
  1. 依制程条件需求，严格管控物料之浓度及金属不纯物或微粒子数。
PGMEA (电子级) 溶剂
  1. 依制程条件需求，严格管控物料之浓度及金属不纯物或微粒子数。
28%氨水 (电子级) 水溶液
  1. 依制程条件需求，严格管控物料之浓度及金属不纯物或微粒子数。
TMAH (电子级) 水溶液
  1. 依制程条件需求，严格管控物料之浓度及金属不纯物或微粒子数。
HF (电子级) 水溶液
  1. 依制程条件需求，严格管控物料之浓度及金属不纯物或微粒子数。
DMSO (电子级) 溶剂
  1. 依制程条件需求，严格管控物料之浓度及金属不纯物或微粒子数。